Au sujet de l'électrodéposition d'arc de vide, revêtement d'évaporation d'arc

Au sujet de l'électrodéposition d'ion

Informations générales

1. sur l'électrodéposition utilise bombardement énergique concourant ou périodique de particules du film déposant pour modifier et commander la composition et les propriétés du film déposant.

2. Le matériel déposant peut être vaporisé par évaporation, la pulvérisation, vaporisation d'arc, ou toute autre source de vaporisation.

3. Les particules énergiques utilisées pour le bombardement sont habituellement des ions d'un gaz inerte ou réactif, ou des ions du matériel déposant (ions de film).

4. L'électrodéposition d'ion peut être faite dans un environnement de plasma où des ions pour le bombardement sont extraits à partir du plasma

Avantages de l'électrodéposition d'ion

1. De l'énergie significative est présentée dans la surface du film déposant par le bombardement énergique de particules.

2. La couverture extérieure peut être améliorée au-dessus de l'évaporation de vide et pulvériser le dépôt dû au gaz dispersant et des effets « de re-dépôt de pulvérisation ».

3. Le bombardement commandé peut être employé pour modifier des propriétés de film telles que l'adhérence, densité, effort résiduel de film, propriétés optiques.

4. Les propriétés de film dépendent moins de la « angle-de-incidence » du flux du matériel déposant qu'avec pulvérisez le dépôt et nettoyez à l'aspirateur l'évaporation due à la dispersion de gaz, au « sputtering/re-deposition », et » aux effets de matage « atomiques.

5. Le bombardement peut être employé pour améliorer la composition chimique du matériel de film par « des réactions chimiques bombardement-augmentées » et de la pulvérisation des espèces non réagies de la surface croissante.

6. Dans quelques applications que le plasma peut être employé « activez » les espèces réactives et créez les nouvelles espèces chimiques qui plus aisément sont absorbées afin de faciliter le procédé réactif de dépôt (l'électrodéposition réactive d'ion)

Inconvénients de l'électrodéposition d'ion

1. Il y a beaucoup de variables de traitement à commander.

2. Il est souvent difficile d'obtenir le bombardement uniforme d'ion au-dessus de la surface de substrat, menant aux variations de film-propriété au-dessus de la surface.

3. Le chauffage de substrat peut être excessif.

4. Dans certaines conditions le gaz de bombardement peut être incorporé au film croissant.

5. Dans certaines conditions l'effort compressif résiduel excessif de film peut être produit par le bombardement.

6. L'électrodéposition d'ion est employée pour déposer les revêtements durs des matériaux composés, des revêtements des métaux adhérents, des revêtements optiques avec des hautes densités, et des revêtements isogones sur les surfaces complexes.

7. Gouttelettes qui pourraient des affects la surface de revêtement.