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Quelle est électrodéposition d'ion ?

August 10, 2018

Dernières nouvelles de l'entreprise Quelle est électrodéposition d'ion ?

  ------------------- L'article est par Donald M. Mattox 

 

 

                  L'ion plaquant (IP) est un processus physique de (PVD) de dépôt en phase vapeur qui parfois s'appelle dépôt aidé par ion (IAD) ou le dépôt en phase vapeur d'ion (IVD) et est une version de métallisation sous vide. L'électrodéposition d'ion emploie le bombardement concourant ou périodique du substrat, et dépose le film par les particules énergiques de taille atomique. Le bombardement avant le dépôt est employé pour pulvériser propre la surface de substrat. Pendant le dépôt le bombardement est employé pour modifier et commander les propriétés du film déposant. Il est important que le bombardement soit continu entre le nettoyage et les parties de dépôt du processus maintenir une interface atomique propre.

 

              En ion plaquant l'énergie, le flux et la masse des espèces de bombardement avec le rapport des particules de bombardement aux particules déposantes sont des variables de traitement importantes. Le matériel déposant peut être vaporisé par évaporation, la pulvérisation (la pulvérisation polarisée), vaporisation d'arc ou par décomposition d'une déposition en phase vapeur de précurseur chimique de vapeur (CVD). Les particules énergiques utilisées pour le bombardement sont habituellement des ions d'un gaz inerte ou réactif, ou, dans certains cas, des ions du matériel de condensation de film (« ions de film "). L'électrodéposition d'ion peut être faite dans un environnement de plasma où des ions pour le bombardement sont extraits à partir du plasma ou il peut être fait dans un environnement de vide où des ions pour le bombardement sont formés dans une arme à feu d'ion distincte. La dernière configuration d'électrodéposition d'ion s'appelle souvent le dépôt aidé (IBAD) de faisceau d'ions. À l'aide d'un gaz ou d'une vapeur réactif dans le plasma, des films des matériaux composés peuvent être déposés.

 

               L'électrodéposition d'ion est employée pour déposer les revêtements durs des matériaux composés sur des outils, des revêtements des métaux adhérents, des revêtements optiques avec des hautes densités, et des revêtements isogones sur les surfaces complexes.

 

 

                La technologie royale de Changhaï a développé la métallisation sous vide normalisée par série de plusieurs PVD automatisée la technique d'électrodéposition d'ion, intensivement appliquée avec de divers revêtements décoratifs et films fonctionnels comme : revêtements durs, propriétés de port de corrosion et d'éraflure, conduction élevée et revêtements réfléchis. 

 

Ces machines ont équipé le dispositif de bombardement d'ion pour le traitement préparatoire de nettoyage de plasma, le présentent dans le gaz d'iner comme l'AR, H2 à acritive la surface de substrat, approuvent l'adhérence entre le substrat et les films de depostion. 

La couche de collage est exigée pour le substrat spécial parfois. La technologie royale visant fournit toutes les solutions clés en main de revêtement pour chaque utilisateur. 

 

Système de métallisation sous vide de pulvérisation de magnétron

 

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Machine multi de métallisation sous vide d'arc 

 

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Équipement multi de revêtement de pulvérisation d'arc + de magnétron

 

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