Caractéristiques de sources de pulvérisation de magnétron
Fonctionnalités clé
1. Conception finie de champ magnétique d'élément
2. Aimant d'isolement dans l'eau de refroidissement
3. Compatible avec des puissances de DC/MF et de rf
4. Utilisation élevée de cible
5. Direction de éjection réglable
6. Densité de puissance élevée et excellente uniformité
7. Choix équilibré et non équilibré de mode
Puissance de pulvérisation de maximum | |
Cible refroidie indirecte | > 20 watts/cm2 (C.C) |
> 7 watts/cm2 (rf) | |
Tension de décharge | 100 à 1500 volts |
Courant dérivé | > 0,05 ampères/cm2 |
Pression de fonctionnement | PA 0,05 à 5 |
Utilisation de cible | > 35% |
Cible | |
Forme | Planaire rectangulaire |
Épaisseur | 6mm~16mm |
Largeur | 125mm |
Installation | Interne et externe |
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