Spécification des sources de pulvérisation magnétron
Principales caractéristiques
1. Conception de champ magnétique par éléments finis
2. Aimant isolé de l'eau de refroidissement
3. Compatible avec les puissances DC/MF et RF
4. Utilisation ciblée élevée
5. Direction d'éjection réglable
6. Densité de puissance élevée et excellente uniformité
7. Choix du mode équilibré et déséquilibré
8. Utilisation cible : > 80 %
Applications:
Pour l'or rose, le noir de jais, le dépôt de couleurs bleues et le revêtement de film conducteur.Peut être installé sur des systèmes de revêtement par pulvérisation magnétron PVD verticaux et horizontaux.
Veuillez nous contacter pour plus de spécifications, Royal Technology est honoré de vous fournir des solutions de revêtement complètes
