Système élevé de dépôt de pulvérisation de tantale de résistance à la corrosion

Le magnétron pulvérisant est très utilisé pour déposer les métaux réfractaires comme le tantale, le titane, le tungstène, le niobium, qui exigeraient des hautes températures mêmes du dépôt, et les métaux précieux : De l'or et de l'argent et ce qui est également employé pour le dépôt des métaux inférieurs de points de fusion comme le cuivre, aluminium, nickel, le chrome etc.

Le tantale est plus employé dans l'industrie électronique comme revêtement de protection en raison de sa bonne résistance à l'érosion.

Applications de la couche mince de tantale Sputtered :
1. l'industrie de la microélectronique pendant que les films peuvent être réactivement pulvérisés et ainsi le coefficient de résistivité et de température de résistance peuvent être commandés ;

2. Instruments médicaux comme des implants de corps pour sa fortement propriété de biocompatability ;
3. Revêtements sur les parties anticorrosion, telles que des thermowells, des corps de valve, et des attaches ;
4. Le tantale pulvérisé peut devoir également être employé comme barrière efficace de résistance à la corrosion si le revêtement est continu, désertée et est adhérent au substrat est prévu pour se protéger.

Avantages techniques

1. On applique un chariot normalisé qui permet le chargement/le déchargement faciles et sûrs des supports de substrat et des morceaux de travail dedans hors de la chambre de dépôt
2. Le système est contact de sécurité pour empêcher l'opération incorrecte ou les pratiques peu sûres
3. On fournit les appareils de chauffage de substrat qui ont monté au centre de la chambre, PID ont commandé le thermocouple pour de grande précision, pour augmenter pour condenser l'adhérence du film
4. Configurations fortes de pompes à vide avec par magnétisme la pompe moléculaire de suspension par l'intermédiaire de la soupape à vanne reliée à la chambre ; soutenu avec les racines de Leybold pompez et la pompe de palette rotatoire à deux étages, pompe mécanique.
5. La source ionisée de plasma de haute énergie est appliquée avec ce système pour garantir l'uniformité et la densité.
   
   
   

Système normalisé de dépôt de pulvérisation du tantale de la technologie royale :

Insite :

Temps établi : 2018

Emplacement : La Chine

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