Machine de dispositif d'enduction de métallisation sous vide d'iodure de machine/césium de métallisation sous vide de l'iodure PVD de césium/d'évaporation vide de CsI
Représentation de métallisations sous vide de l'iodure PVD de césium
Résolution spatiale élevée Ultra- des représentations ;
Réponse rapide pour des représentations plus pointues ;
Principaux secteurs d'image de bord-à-bord de classe ;
Couches optiques d'amortisseur ou couches de réflecteur ;
Basse dose patiente de rayon X ;
Approprié aux dispositifs de CCD et de CMOS, particulièrement dans des industries médicales.
La machine de métallisation sous vide de l'iodure PVD de césium est développée exclusivement utilisée pour que des dispositifs médicaux obtiennent une représentation élevée de rayon X. Les caractéristiques principales de cette machine :
1. Pression finale ultra-haute de vide : jusqu'à la PA 9.0*10-5 ;
2. De chauffage dispositifs rapides pour une bonne adhérence ;
3. Sélection appropriée de pompe à vide et système de pompage élevés à éviter de mettre en danger matériel exposé dans le ciel ;
4. Procédé de protection robuste, compact et solide ;
5. De forte stabilité, travaillant 960 heures sans arrêt.
6. Dispositif de contrôleur d'épaisseur de film d'Inficon pour surveiller l'épaisseur de film en ligne.
7. Exclusivement les creusets conçoivent et sélection pour le dépôt de CsI.
8. Substrats enduisant, taille maximale : 500*500mm
Le dépôt de la couche mince de CsI pour des dispositifs imageurs de rayon X est une technique avancée pour évaporer CsI sur l'écran pour donner un de haute qualité des représentations. Avec sa représentation de haute résolution, aussi très utilisée dans la vérification et l'inspection secuiry, le subsject de physique des hautes énergies, la physique des secteurs etc. d'énergie nucléaire.
Veuillez nous contacter avec plus de caractéristiques, technologie royale est honoré pour te fournir les solutions de revêtement totales.
