| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
|---|---|
| Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
| Caractéristiques de film | une meilleure conduction thermique, adhérence forte, haute densité, bas coût de production |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Service mondial | La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du |
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
|---|---|
| Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
| Caractéristiques de film | une meilleure conduction thermique, adhérence forte, haute densité, bas coût de production |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Service mondial | La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du |
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
|---|---|
| Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
| Caractéristiques de film | une meilleure conduction thermique, adhérence forte, haute densité, bas coût de production |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Cathode de pulvérisation de magnétron | Cathodes planaires ou de cylindre |
|---|---|
| Modèle de puissance | C.C, MF |
| Sources de dépôt | l'arc cathodique, magnétron pulvérise |
| Nettoyage de plasma | Bombardement polarisé pulsé de plasma |
| Source d'ions | Type linéaire de couche d'anode |
| Sources de dépôt | Le C.C/MF de magnétron pulvérisant + a orienté l'arc cathodique |
|---|---|
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
| Applications | Puces en céramique de LED avec le tonnelier Plating, Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 s |
| Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation verticale, 1 porte |
|---|---|
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
| Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
| Caractéristiques de film | une meilleure conduction thermique, adhérence forte, haute densité, bas coût de production |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation verticale, 1 porte |
|---|---|
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
| Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
| Caractéristiques de film | une meilleure conduction thermique, adhérence forte, haute densité, bas coût de production |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Sources de dépôt | Le C.C/MF de magnétron pulvérisant + a orienté l'arc cathodique |
|---|---|
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
| Applications | Puces en céramique de LED avec le tonnelier Plating, Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 s |
| Caractéristiques de film | la résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs de revêtement décoratives |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Sources de dépôt | Le C.C/MF de magnétron pulvérisant + a orienté l'arc cathodique |
|---|---|
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
| Applications | Puces en céramique de LED avec le tonnelier Plating, Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 s |
| Caractéristiques de film | la résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs de revêtement décoratives |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation verticale, 1 porte |
|---|---|
| Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
| Sources de dépôt | Le C.C/MF de magnétron pulvérisant + a orienté l'arc cathodique |
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
| Applications | Puces en céramique de LED avec l'électrodéposition de tonnelier, Al2O3, cartes en céramique d'AlN, p |
