| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
|---|---|
| Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
| Caractéristiques de film | une meilleure conduction thermique, adhérence forte, haute densité, bas coût de production |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Service mondial | La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du |
| Sources de dépôt | Pulvérisation + évaporation cathodique d'arc |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | Metal les bijoux, montres, collier, boucles d'oreille, bagues, bracelets, chaînes de sac à main, log |
| Caractéristiques de film | couleurs lumineuses, résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Sources de dépôt | Arc cathodique orienté + cathode de pulvérisation de MF |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | attaches en acier de précision, vis, métaux de caméra |
| Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Technologie de revêtement | Pulvérisation, évaporation, traitement au plasma |
|---|---|
| Caractéristiques de l'équipement | Structure robuste, conception compacte, haute efficacité et contrôle de précision |
| Application de revêtement | Papier électronique, film ITO, circuits flexibles, photovoltaïque, bandes médicales et RFID. |
| De contrôle des opérations | PLC intuitif et contrôle IPC |
| Service et formation | Disponible, des États-Unis Ingénieur et techniciens |
| Sources de dépôt | Arc cathodique orienté + cathode de pulvérisation de MF |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | attaches en acier de précision, vis, métaux de caméra |
| Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Modèle | RTAC1600 |
|---|---|
| Produits appliqués | Pièces ABS avec base de galvanoplastie chromée |
| Couleurs décoratives | Cuivre or rose, marron, noir, or TiN, or pâle ZrN, or foncé ZrN, bleu, vert, arc-en-ciel, etc. |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Service mondial | La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du |
| Matériel | En céramique, porcelaine, articles en verre, tasses de porcelaine |
|---|---|
| Revêtements décoratifs | Étamez l'or, or de ZRN, argent de Ti, argent en aluminium, électrodéposition de chrome |
| Propriétés fonctionnelles | Adhérence forte, résistance d'éraflure, résistance à la corrosion, résistance de choc anti-UV et the |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Application | L'industrie électronique, d'autres industries a besoin d'interférence magnétique électrique protégea |
|---|---|
| Matériaux de revêtement | Acier inoxydable de cuivre et, aluminium, Chrome, titane etc. |
| Technologie de PVD | Évaporation de filament de tungstène, pulvérisation de magnétron de C.C |
| Nom d'équipement | PVD. Usine de revêtement de pulvérisation, machine de métallisation sous vide de PVD, metallizion de |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Sources de dépôt | Arc cathodique orienté + cathode de pulvérisation de MF |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | attaches en acier de précision, vis, métaux de caméra |
| Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation verticale, 2 portes |
|---|---|
| Matériel | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | évaporation thermique de résistance + pulvérisation de magnétron de C.C |
| Sources de dépôt | fil de tungstène, cathodes planaires de pulvérisation |
| Films de revêtement | Armature d'IEM |
