| Sources de dépôt | MF/DC pulvérisant + cathodes d'arc |
|---|---|
| Films de dépôt | DLC, revêtement optique de film, revêtements décoratifs |
| Applications | PECVD traitent, le film de DLC, diamant comme le film de carbone, film optique de pulvérisation, |
| Caractéristiques de film | Corrosion élevée et résistance à l'usure réfléchies et excellentes |
| Structure d'équipement | structure de porte d'avant et de dos 2 |
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
|---|---|
| Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
| Caractéristiques de film | une meilleure conduction thermique, adhérence forte, haute densité, bas coût de production |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Service mondial | La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du |
| Chambre | Orientation, 1 porte, |
|---|---|
| Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, dépôt d'arc de PVD |
| Sources de dépôt | Sources cathodiques d'arc |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Technologie | Magnétron de C.C pulvérisant, dépôt de pulvérisation de PVD, métallisation sous vide de PVD |
|---|---|
| Applications | dépôt conducteur de film, revêtement de film de résistance à la corrosion |
| Propriétés | Machine robuste et à fort débit de conception |
| Cibles de pulvérisation | Ni, Cr, Cu, Au, AG, ventres, Ti, solides solubles, métaux purs d'Al etc. |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation horizontale/verticale, 1 porte, |
|---|---|
| Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, dépôt d'arc de PVD |
| Sources de dépôt | Sources cathodiques d'arc |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Chambre | Orientation verticale, 1 porte, |
|---|---|
| Matériel | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | Évaporation d'arc |
| Sources de dépôt | Sources cathodiques d'arc |
| Films de revêtement | Ti, Cr, étain, TiCN, centre de détection et de contrôle, TiO etc. |
| Chambre | Orientation verticale, 1 porte, |
|---|---|
| Matériel | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | Évaporation d'arc, électrodéposition d'ion d'arc |
| Sources de dépôt | Cathodes d'arc |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Nom | système de cuivre de pulvérisation de magnétron |
|---|---|
| Technologie | Dépôt de tonnelier du flacon de vide PVD |
| Disponible | Revêtement multi de couches |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Application | L'industrie électronique, d'autres industries a besoin d'interférence magnétique électrique protégea |
|---|---|
| Matériaux de revêtement | Acier inoxydable de cuivre et, aluminium, Chrome, titane etc. |
| Technologie de PVD | Évaporation de filament de tungstène, pulvérisation de magnétron de C.C |
| Nom d'équipement | PVD. Usine de revêtement de pulvérisation, machine de métallisation sous vide de PVD, metallizion de |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation verticale, 1 porte |
|---|---|
| Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
| Sources de dépôt | Le C.C/MF de magnétron pulvérisant + a orienté l'arc cathodique |
| Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
| Applications | Puces en céramique de LED avec l'électrodéposition de tonnelier, Al2O3, cartes en céramique d'AlN, p |
