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Débloquez les performances de revêtement de nouvelle génération avec la machine de placage d'ions PVD: la solution hybride Multi950

Débloquez les performances de revêtement de nouvelle génération avec la machine de placage d'ions PVD: la solution hybride Multi950

2025-12-28

Dans le paysage évolutif de la fabrication avancée et de la science des matériaux, la demande de films minces performants, durables et multifonctionnels n'a jamais été aussi grande.Les chercheurs et les développeurs sont constamment confrontés au défi de trouver des équipements qui offrent non seulement une précision et une qualité, mais aussi une polyvalence et une fiabilité inégalées pour des applications de pointe.Machine à revêtement d'ions PVD une technologie de base permettant d'obtenir une adhérence, une densité et une pureté supérieures des films.Le numéro de série est:, un système de dépôt sous vide hybride PVD et PECVD conçu pour transcender les limites des revêtements conventionnels.C'est une plateforme de R&D complète née de la collaboration académique et conçue pour l'avenir de l'ingénierie de surface.

Le cœur des capacités du Multi950 réside dans sonLe revêtement en ions PVDla technologie.

Contrairement aux méthodes PVD standard, le placage ionique utilise un environnement plasma à haute énergie où les ions participent activement au processus de formation du film.8 ensembles de cathodes à arcet un dévouéSource d'ions linéaireCette combinaison assure une ionisation intense du plasma, ce qui conduit à des films aux caractéristiques exceptionnelles:

  • Adhésion inégalée:

    La source d'ions fournit une gravure de plasma robuste et un bombardement d'ions avant et pendant le dépôt.résultant en une adhérence de film qui résiste à des contraintes mécaniques extrêmes et à un cycle thermique.

  • Densité et qualité supérieures:

    Les ions à haute énergie arrivant à la surface du substrat favorisent la croissance d'un film dense et sans vide, ce qui donne des revêtements d'excellente dureté, résistance à la corrosion et propriétés optiques,essentiel pour les applications allant des films durs de protection aux filtres optiques de précision.

  • Une excellente couverture des étapes:

    Le dépôt assisté par des ions améliore la puissance de projection, permettant une couverture de revêtement plus uniforme sur des géométries complexes, y compris des outils à bords tranchants ou à caractéristiques encastrées.

La conception de la "chambre octal" Multi950 ′ avec unStructure à deux portesoffre une accessibilité inégalée pour la maintenance et la reconfiguration.

Son génie estmodularité normaliséeL'arc et les cathodes de pulvérisation, ainsi que les brides de source ionique, sont conçus pour un échange flexible, ce qui signifie que le même système de noyau peut être facilement adapté entre:

  • Pour les appareils de traitement des déchets:

    Pour les revêtements ultra-durs et résistants à l'usure tels que TiN, CrN ou DLC.

  • Sputtering par MF:

    Pour les revêtements optiques métalliques et diélectriques de haute qualité à faible tension.

  • Processus de dépistage du PECVD:

    Pour le dépôt de films à base de carbone avancés, tels que les DLC transparents, à des températures plus basses, idéal pour les substrats sensibles.

C' est ça.PVD/PECVD hybrideCette capacité permet de créer de nouveaux films multicouches et nanocomposites en un seul cycle de pompage, combinant les meilleures propriétés de différentes technologies.

Né d'une collaboration avec l'équipe académique de l'Université de Shanghai dirigée par le professeur Yigang Chen, le Multi950 est l'incarnation d'un cheval de bataille de la R&D.

Il répond à des processus nécessitant des couches métalliques diverses (Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni) et des composés sur des substrats métalliques ou non métalliques.Sa conception éprouvée a donné naissance à des systèmes spécialisés pour les applications frontalières, démontrant sa polyvalence fondamentale:

  • Les revêtements durs des outils de découpe et de formage
  • Films optiques

    pour les capteurs et les écrans par pulvérisation par magnétron.

  • Films DLC transparents

    à des fins d'usure et anti-réflexion.

  • Films fonctionnels

    pour des secteurs comme l'aérospatiale, l'automobile et les dispositifs biomédicaux.

Situé dans une empreinte compacte (Pour les appareils à commande numérique), le système ne fait pas de compromis sur le pouvoir.puissance totale de 150 kW, il comporte un grandφ650 x H750 mm zone d'uniformité du plasmaet unSystème de chauffage à 500 °Cavec contrôle PID pour une gestion thermique précise.Garantie limitée d'un an et support machine à vie, le réseau mondial de service de ROYAL TECH s'étend de l'Europe (Pologne) à l'Asie (Inde, Iran, Turquie) et aux Amériques (Mexique), assurant un soutien expert sur place, une formation sur l'exploitation des machines, la maintenance,et recettes de procédés de revêtement.

La machine de dépôt sous vide hybride ROYAL Multi950 est plus qu'un simpleMachine à revêtement d'ions PVD; c'est un investissement stratégique dans l'innovation, qui permet aux services de R & D et aux lignes de production pilotes d'explorer de nouvelles combinaisons de matériaux, d'optimiser les processus,et développer des revêtements propriétaires avec rapidité et flexibilitéEn intégrant le revêtement d'ions PVD, le pulvérisation DC/MF et le PECVD dans une plateforme modulaire fiable, il élimine le besoin de plusieurs systèmes dédiés, réduisant les coûts et accélérant le temps de mise sur le marché.

Prêt à redéfinir les limites de vos capacités de revêtement?Contactez ROYAL TECH dès aujourd'hui pour discuter de la façon dont le système hybride Multi950 peut être adapté (OEM/ODM disponible) pour répondre à vos défis d'application spécifiquesDemandez une consultation détaillée ou un document technique pour explorer l'avenir du dépôt sous vide.