La machine d'électrodéposition de la couche mince des attaches PVD de précision/décoration nanoe de la couche mince PVD finit
Quel est PVD ?
PVD (est le nom court du dépôt en phase vapeur physique) est un processus de métallisation sous vide pour produire une couche mince basée sur métal isogone qui peut être uniformément déposée sur les surfaces électriquement conductrices. Suivre la méthode de pulvérisation de MF d'évaporation et de magnétron d'ion d'arc, une seule couche de revêtement fournit la couverture suffisante sans modifier le profil extérieur. Cette technique est employée dans beaucoup d'industries électroniques comprenant des supports optiques, des optique et des composants de semi-conducteur.
Propriétés de la couche mince de PVD
La machine d'électrodéposition de la couche mince des attaches PVD de précision est appliquée avec des attaches et les garnitures comme des vis, boulons, écrasements, garnitures, chapeaux utilisés en cosmétiques, produits électroniques, machines mécaniques, industries automobiles emploient extensivement la technologie de PVD pour obtenir la variété de couleurs de Panton, la gamme de l'or, le noir, le bleu, le gris, l'argent, l'arc-en-ciel, le bronze, le champage etc.
Sources de dépôt de machine d'électrodéposition de la couche mince des attaches PVD de précision
Sources circulaires orientées d'arc pour l'évaporation de la cible solide en métal ;
2 paires de MF unblanced des cathodes de pulvérisation pour le dépôt de couche de la couche mince de graphite ;
Alimentation d'énergie polarisée pour que le bomboardment d'ion forme le secteur de plasma pour le traitement préparatoire ;
Unité linéaire de source d'ions d'anode (pour facultatif) traitement de PACVD et de PECVD ;
Cryopump (Polycold) pour la condensation moléculaire de l'eau (pour facultatif)
Structures de machine d'électrodéposition de la couche mince des attaches PVD de précision
1. puits à dépression
2. système de pompage de vide de Rouhging (paquet de pompe de support)
3. système de pompage de vide poussé (par magnétisme pompe moléculaire de suspension)
4. système de commande électrique et d'opération
5. système d'installation d'Auxiliarry (sous-système)
6. système de dépôt : Cathode de pulvérisation de MF, alimentation d'énergie de MF, source d'ions polarisée d'alimentation d'énergie pour facultatif
La couche mince des attaches PVD de précision plaquant la représentation de Machin
1. pression finale de vide : améliorez que les torr 5.0×10-6.
2. pression fonctionnante de vide : Torr 1.0×10-4.
3. temps de Pumpingdown : de 1 atmosphère à 1.0×10-4 Torr≤ 3 minutes (la température ambiante, sèche, nettoient et vident la chambre)
4. métallisation du matériel (pulvérisant + évaporation d'arc) : Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr, étain, tic, TiAlN, CrN, centre de détection et de contrôle, etc.
5. modèle fonctionnant : Plein automatiquement /Semi-Auto/ manuellement
La couche mince des attaches PVD de précision plaquant des caractéristiques de Machin
| MODÈLE | RTAC1250-SPMF | ||||||
| TECHNOLOGIE | Magnétron de MF pulvérisant + électrodéposition d'ion | ||||||
| MATÉRIEL | Acier inoxydable (S304) | ||||||
| TAILLE DE CHAMBRE | Φ1250 * H1250mm | ||||||
| TYPE DE CHAMBRE | Cylindre, verticale, 1 porte | ||||||
| SYSTÈME DE PULVÉRISATION | Exclusivement conception pour le dépôt noir mince de film | ||||||
| MATÉRIEL DE DÉPÔT | Aluminium, argent, cuivre, Chrome, acier inoxydable, Nickel |
||||||
| SOURCE DE DÉPÔT | 2 ensembles que la pulvérisation cylindrique de MF vise + 8 ont orienté des sources cathodiques d'arc + la source d'ions pour facultatif | ||||||
| GAZ | Manières de cpc 4, AR, N2, O2, C2H2 | ||||||
| CONTRÔLE | PLC (contrôleur programmable de logique) + | ||||||
| SYSTÈME DE POMPE | SV300B - 1 ensemble (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 place (Leybold) | |||||||
| D60T- 1 ensemble (Leybold) | |||||||
| Pompes moléculaires de Turbo : 2* F-400/3500 | |||||||
| TRAITEMENT PRÉPARATOIRE | Alimentation d'énergie polarisée : Kilowatt 1*36 | ||||||
| SYSTÈME DE SÛRETÉ | Contacts de sécurité nombreux pour protéger des opérateurs | ||||||
| REFROIDISSEMENT | Eau froide | ||||||
| PUISSANCE ÉLECTRIQUE | 480V/3 phases/60HZ (Etats-Unis conformes) | ||||||
| 460V/3 phases/50HZ (Asie conforme) | |||||||
| 380V/3 phases/50HZ (EU-CE conforme) | |||||||
| EMPREINTE DE PAS | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| POIDS TOTAL | 7,0 T | ||||||
| EMPREINTE DE PAS | (L*W*H) 5000*4000 *4000 MILLIMÈTRE | ||||||
| DURÉE DE CYCLE | 30~40 minutes (selon le matériel de substrat, la géométrie de substrat et conditions environnementales) |
||||||
| MAXIMUM DE PUISSANCE. | 155 KILOWATTS | ||||||
| PUISSANCE MOYENNE CONSOMMATION (APPROXIMATIVEMENT) |
75 KILOWATTS |
Les tailles adaptées aux besoins du client de machine sont également disponibles basées sur les produits exigés spécifiques.
Veuillez nous contacter avec plus de caractéristiques, technologie royale est honoré pour te fournir les solutions totales de revêtement.
