Système de pulvérisation de magnétron d'en cuivre de flacon de vide/dépôt de tonnelier flacon de vide PVD
Technologie de pulvérisation de magnétron à la laquelle représente une vraie alternative
revêtement de galvanoplastie définitivement de remplacement de Chrome/argent/or sur des métaux/céramique
matières de résine/plâtre/en verre et plastiques qui est considéré un polluant fort et un risque sanitaire.
Le plus important est la valeur ajoutée apporte aux producteurs. Les processus de la pulvérisation PVD
permettez la production presque illimitée des revêtements sur n'importe quel type de surface complexe. En grande partie, pour
esthétique (décoratif), applications fonctionnelles de revêtement.
Système de pulvérisation de magnétron d'en cuivre de flacon de vide
RTSP1618 est conçu et produit exclusivement pour le dépôt de tonnelier de flacon de vide. L'épaisseur déposante de couche est jusqu'à 2~3 microns qui donne la conservation thermique extrêmement bonne de la chaleur.
Quand ajoutez les sources cathodiques d'arc, elle peut être employée pour que le revêtement extérieur de flacon de vide produise de diverses couleurs décoratives : noir, or, bleu, arc-en-ciel etc.
Avantages de technologie de pulvérisation de magnétron d'en cuivre de flacon de vide
1. Elle est totalement économiquement efficace produisant des films de revêtement les plus minces et les plus uniformes ;
2. C'est un processus sec de revêtement à la basse température dans un puits à dépression ;
3. Il offre la grande polyvalence, peut être employé pour le dépôt des matériaux conducteurs ou non-conducteurs sur n'importe quel type
des substrats, comme : métaux, céramique, matières plastiques.
4. Le revêtement multi de couches sont disponible.
Le revêtement de système de pulvérisation de magnétron d'en cuivre de flacon de vide vise :
Chrome, nickel, argent, or, les cibles titaniques sont appliqués pour produire des couches minces de haute qualité dessus
pièces en plastique.
| MODÈLE | RTSP-1618 | ||
| MATÉRIEL | Acier inoxydable (S304) | ||
| TAILLE DE CHAMBRE | Φ1600*1800mm (h) | ||
| SYSTÈME DE POMPE | Pompe à vide de piston rotatoire | ||
| Pompe à vide rotatoire de palette | |||
| Pompe à vide de racines | |||
| Pompe de diffusion | |||
| TECHNOLOGIE | Magnétron pulvérisant la décharge de Coating+Glow | ||
| CONTRÔLE | PLC (contrôleur programmable de logique) + écran tactile | ||
| GAZ | Mètres d'écoulement de la masse de gaz | ||
| SYSTÈME DE SÛRETÉ | Contacts de sécurité nombreux pour protéger les opérateurs et l'équipement | ||
| REFROIDISSEMENT | L'eau | ||
| NETTOYAGE | Source de plasma | ||
| MAXIMUM DE PUISSANCE. | 145KW | ||
| PUISSANCE MOYEN | 70KW | ||
