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| Nom De Marque: | ROYAL |
| Numéro De Modèle: | RTSP1000 |
| MOQ: | 1 jeu |
| Capacité à Fournir: | 10 jeux par mois |
Le système non équilibré de dépôt de pulvérisation de magnétron de champ fermé, a déséquilibré le magnétron pulvérisant Ion Plating
Les processus déséquilibrés et fermés de magnétron de champ ont tous les avantages des magnétrons planaires. Les avantages et les inconvénients supplémentaires sont :
Magnétron non équilibré et fermé de champ pulvérisant les propriétés révolutionnées réalisables par des processus de pulvérisation de magnétron. Comme réussi avec la résistance tribologique et à la corrosion améliorée de la couche mince et les propriétés optiques en tant que cette technologie étaient, les améliorations en technologie de magnétron avaient juste commencé. Prochain blog que nous passons aux applications de rotation et de couche mince cylindrique de processus et de résulter de magnétron.
--- Au-dessus de l'article de P E T E R M PAR R T I N
La technologie royale a développé le rendement élevé et les cathodes élevées de pulvérisation d'utilisation de cible, particulièrement pour les métaux rares et chers pulvérisant : Or d'Au, merci tantale, dépôt argenté de films en métal d'AG. Du haut le système du dépôt film d'uniformité avaient servi plusieurs industries comme des pièces de l'électronique, les composants d'instruments médicaux qui exigent haut l'uniformité de film, dépôt multiple de couches.
La machine RTSP1000 est une machine normalisée développée par technologie royale. Étendu s'est appliqué avec la coupe/les outils de formation, moules, instruments médicaux, composants de l'électronique, industries automobiles.
| Configurations RTSP1000 principales et paramètres techniques | ||||||||
| MODÈLE | RTSP1000 | |||||||
| TECHNOLOGIE | Magnétron de MF pulvérisant + nettoyage de plasma de source d'ions | |||||||
| MATÉRIEL DE CHAMBRE | Acier inoxydable (S304) | |||||||
| TAILLE DE CHAMBRE | Φ1000*800mm (h) | |||||||
| TYPE DE CHAMBRE | Forme de D | |||||||
| SUPPORT DE ROTATION ET SYSTÈME DE GABARIT | poids maximal de 6 satellites : 500kgs | |||||||
| ALIMENTATIONS D'ÉNERGIE |
Quantité. de la pulvérisation : Polarisation du kilowatt 2*24 d'alimentation d'énergie : approvisionnement 1*5KW de 1*20W Ion Source Power |
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| MATÉRIEL DE DÉPÔT | Ti/Cr/TiAl /Ta/Cu/Au/Carbon etc. | |||||||
| SOURCE DE DÉPÔT | cathodes planaires de pulvérisation de 2 paires (4 morceaux) + 1 Ion Source linéaire Région d'uniformité : ±10~15% |
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| CONTRÔLE | PLC (contrôleur programmable de logique) + écran tactile (modèles d'opération semi-automatiques de manual+ auto+) | |||||||
| SYSTÈME DE POMPE | Vane Pump rotatoire : SV300B - 1 ensemble (Leybold) | |||||||
| Les racines pompent : Ensemble de WAU1001- 1 (Leybold) | ||||||||
| Tenir la pompe : Ensemble de D60C- 1 (Leybold) | ||||||||
| Pompe moléculaire de suspension magnétique - 1 ensemble (Leybold) | ||||||||
| INTOXIQUEZ LE CONTRÔLEUR D'ÉCOULEMENT DE LA MASSE | 4 canaux, fabriqués en Chine, modèle numérique de sept étoiles (série de CS,) | |||||||
| MESURE DE VIDE | Modèle : ZDF-X-LE, fabriqué en Chine : ZDF-X-LE | |||||||
| SOURCE D'IONS LINÉAIRE | 1 morceau traitant préalablement, plasma nettoyant + dépôt aidé | |||||||
| SYSTÈME DE SÛRETÉ | Contacts de sécurité nombreux pour protéger les opérateurs et l'équipement | |||||||
| CHAUFFAGE | Appareils de chauffage : 30KW. Temp de maximum. : 450℃ | |||||||
| REFROIDISSEMENT | Réfrigérateur industriel (eau froide) | |||||||
| MAXIMUM DE PUISSANCE. | 100KW (approximativement) | |||||||
| PUISSANCE MOYEN | 45 kilowatts (approximativement) | |||||||
| POIDS BRUT | T (approximativement) | |||||||
| COPIE DE PIED | (L*W*H) 4000*4000 *3200 MILLIMÈTRE | |||||||
| PUISSANCE ÉLECTRIQUE | C.A. 380V/3 phases/50HZ/5 lignes | |||||||
Dépôt planaire de pulvérisation d'utilisation élevée de cible : CLIQUEZ SUR svp ICI pour observer la vidéo
Ion Source Plasma Cleaning linéaire et dépôt aidé : CLIQUEZ SUR svp ICI pour observer la vidéo
Veuillez nous contacter avec plus de caractéristiques, technologie royale est honoré pour te fournir les solutions de revêtement totales.
