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Détails des produits

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Machine PVD personnalisée innovante
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Thallium (I) machine de revêtement d'iodure, système de dépôt de vide poussé de TII, vide Metallizer de CsI,

Thallium (I) machine de revêtement d'iodure, système de dépôt de vide poussé de TII, vide Metallizer de CsI,

Nom De Marque: ROYAL
Numéro De Modèle: CsI950
MOQ: 1 jeu
Prix: négociable
Conditions De Paiement: L/C, T/T
Capacité à Fournir: 15 ensembles par mois
Les informations détaillées
Lieu d'origine:
Fabriqué en Chine
Certification:
CE
Chambre:
Orientation verticale, 1 porte,
Sources de dépôt:
Sources d'évaporation de creuset
Matériaux de dépôt:
Thallium (I) revêtement d'iodure, dépôt d'iodure de césium, TII et CsI,
Applications industrielles:
pour le contrôle et l'inspection de sécurité, l'éducation de physique des hautes énergies, la détect
Emplacement d'usine:
Ville de Changhaï, Chine
Emplacement d'usine:
Ville de Changhaï, Chine
Service mondial:
La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du
Service formation:
Opération de machine, entretien, recettes de processus de revêtement, programme
Garantie:
Garantie limitée 1 an pour libre, vie entière pour la machine
OEM ET ODM:
disponibles, nous soutenons la conception et la fabrication sur mesure
Détails d'emballage:
Exportez la norme, pour être emballé dans de nouveaux caisses/cartons, appropriés à l'océan/à air de
Capacité d'approvisionnement:
15 ensembles par mois
Mettre en évidence:

gold coating machine

,

physical vapor deposition equipment

Description du produit

Le système de dépôt du vide CsI950 poussé est exclusivement conçu pour CsI et métallisation de TII sur des écrans de scintillation dans un environnement de vide extrêmement poussé. Les scintillators de CsI 200~600µm dans des gammes d'épaisseur avec l'uniformité élevée de la représentation d'épaisseur et d'éclat :

Résolution spatiale élevée Ultra- de la représentation ;
Réponse rapide pour une représentation plus pointue ;
Principaux secteurs d'image de bord-à-bord de classe ;
Optique absorbez les couches ou les couches de réflecteur ;
Basse dose patiente de rayon X.

Substrats appliqués : Verre de TFT, plat optique de fibre, plat d'Amorphe-carbone, plat en aluminium

Application : pour le contrôle et l'inspection de sécurité, l'éducation de physique des hautes énergies, la détection nucléaire de radiaton et les imageries médicales : examen de coffre, mamography, oral inter et panoramique dentaires.

 Avantages techniques

La technologie royale fournit la machine de 2 modèles :  CsI950 et CsI950A+

Le CsI950A+ modèle est mis à jour basé sur la 1ère génération CsI950, ses avantages :

1. Efficacité
- Le modèle de CsI-950A+ est avec la structure de support 2 rotatoire basée sur la génération - un modèle CsI-950.
- Double-capacité pour le substrat maximal de taille : 500 x400mm.

2. Répétabilité et reproductibilité
- Par le système de contrôle précisé élevé de paramètre,
- Logiciel et programme à régulation de processus automatisés,
- Opération conviviale.

3. Fiabilité
-24/7 opération directe de jours ;
- Contrôleur d'épaisseur de film d'Inficon pour surveiller l'épaisseur de film en ligne.
- Exactitude de contrôle de la température : ℃ ±1, arrangement à plusieurs étages, enregistrement de données automatique de la température et contrôle
- Supports rotatoires équipés du servomoteur pour de grande précision et la stabilité.

4. Sécurité
pompe à vide à hauteur : La pompe moléculaire de suspension magnétique, avec le dispositif de soufflement de gaz d'azote pour éviter le matériel de risque soit exposée dans le ciel ;
- Toutes les électrodes sont équipées des douilles de protection de sécurité.

 

Paramètres techniques

Description CsI-950

 

CsI-950A+

 

Chambre de dépôt (millimètres)

 

φ950 X H1350

φ950 X H1350

 

Supports rotatoires de chargement 1 2
Sources d'évaporation 2

2

 

Méthode de chauffage

Lampe de tungstène d'iode

1800℃ maximal

Lampe de tungstène d'iode

Maximum 1800℃

Pression de vide d'Ultimated (PA) 8.0×10-5Pa 8.0×10-5Pa
Pompe moléculaire de suspension magnétique 1 x 3400L/S

1 x 3400L/S

 

Les racines pompent ³ /h de 1 x de 490m

³ /h de 1 x de 490m

 

Vane Pump rotatoire ³ /h de 1 x de 300m

³ /h de 1 x de 300m

 

Contrôleur de dépôt Control-X 1 de quartz

Control-X 1 de quartz

 

Puissance (kilowatts)

Maximum approximativement 62

Moyenne approximativement 32

Maximum approximativement 65

Moyenne approximativement 35

Thallium (I) machine de revêtement d'iodure, système de dépôt de vide poussé de TII, vide Metallizer de CsI, 0