| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, évaporation d'arc de PVD, magnétron pulvérisant le MF |
|---|---|
| Sources de dépôt | Sources cathodiques d'arc |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Applications industrielles | Robinets et garnitures de salle de bains, métal, articles en céramique et en verre de maison, articl |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Technologie de revêtement | PECVD, pulvérisant, plasma de source d'ions |
|---|---|
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Service mondial | La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du |
| Service mondial | La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du |
| Service mondial | La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du |
| Sources de dépôt | Pulvérisation de cylindre et cathodes circulaires d'arc |
|---|---|
| Applications industrielles | Articles de Chambre, articles de Tableau d'acier inoxydable, tôle d'acier, meubles, Tableau, chaise, |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Technologie | pulvérisation de magnétron |
| vide | Évaporation d'arc + MF |
| Sources de dépôt | Arc cathodique orienté + cathode de pulvérisation de MF |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Propriétés d'électrodéposition de PVD | Résistance à l'usure élevée, dureté élevée aux températures de fonctionnement élevées, éraflure de A |
| Caractéristique d'équipement | Conception fiable, flexible, stable, robuste, rendement élevé, durée de cycle rapide, grande capacit |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Sources de dépôt | L'équilibre/a déséquilibré magnétique fermé classé |
|---|---|
| Technique | PECVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | Des véhicules à moteur, semi-conducteur, enduisant sic, dépôt de film de DLC, |
| Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Sources de dépôt | Pulvérisez + processus de la source d'ions PECVD |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | DLC, films durs, revêtement optique de film par la pulvérisation de magnétron |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Service mondial | La Pologne - l'Europe ; L'Iran Asie et Moyen-Orient occidentaux, Turquie, Inde, Mexique Amérique du |
| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, dépôt d'arc de PVD, magnétron pulvérisant par C.C |
|---|---|
| Sources de dépôt | L'arc de cylindre ou les cathodes circulaires d'arc, C.C pulvérisent la source |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Applications | tuyauterie et plumbings de arrosage ; garnitures de salle de bains et valves de robinets, |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Technologie | Pulvérisation de magnétron de fréquence médiane de MF |
|---|---|
| Prénettoyage | Traitement préparatoire linéaire de plasma de source d'ions d'anode |
| Cathodes de pulvérisation de MF | 2 ensembles |
| Configuration de chambre | Chambre verticale et cylindrique, porte d'ouverture avant |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Source d'évaporation | Filament thermique, bateau thermique, boîte thermique, tige, creusets |
|---|---|
| Matériaux de dépôt | Aluminium, or, argent, chrome, cuivre, indium, oxyde de bidon d'indium, nickel |
| Applications | semi-conducteurs, capteurs, piles à combustible, et revêtements optiques. |
| Nom | Machine argentée d'électrodéposition |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation verticale, 1 porte, |
|---|---|
| Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, évaporation d'arc de PVD, magnétron pulvérisant le MF |
| Sources de dépôt | cathodes circulaires d'arc |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
