|
| Nom De Marque: | ROYAL |
| Numéro De Modèle: | RTAS |
| MOQ: | 1 jeu |
| Prix: | depends on |
| Conditions De Paiement: | L / C, T / T |
| Capacité à Fournir: | 10 jeux par mois |
Dépôt de couches minces conductrices sur carte de circuit imprimé par procédé de pulvérisation cathodique PVD, placage de cuivre, dépôt par pulvérisation cathodique Au
------ Grande capacité, conception de modules flexibles, fabrication précise.
Avantages techniques :
Le système de pulvérisation DPC-RTAS1215+ est la version améliorée du modèle original ASC1215, le système le plus récent présente plusieurs avantages :
Processus plus efficace :
1. Le revêtement double face est disponible par conception de montage de chiffre d'affaires
2. Jusqu'à 8 brides cathodiques planes standard pour plusieurs sources
3. Grande capacité jusqu'à 2,2 ㎡ puces en céramique par cycle
4. Entièrement automatisé, PLC+écran tactile, système de contrôle ONE-touch
Coût de production réduit :
1. Équipé de 2 pompes moléculaires à suspension magnétique, temps de démarrage rapide, entretien gratuit ;
2. Puissance de chauffage maximale ;
3. Forme octogonale de la chambre pour un espace optimal en utilisant jusqu'à 8 sources d'arc et 4 cathodes de pulvérisation pour un dépôt rapide des revêtements
Le processus DPC - Direct Plating Copper est une technologie de revêtement avancée appliquée aux LED et aux semi-conducteurs dans les industries électroniques.Une application typique est le substrat rayonnant en céramique.Le dépôt de film conducteur de cuivre sur l'oxyde d'aluminium (Al2O3), substrats AlN par la technologie de pulvérisation sous vide PVD, a surtout un gros avantage par rapport aux méthodes de fabrication traditionnelles : DBC LTCC HTCC ont des coûts de production bien inférieurs.
L'équipe de Royal Technology a collaboré avec notre client pour développer le processus DPC en appliquant avec succès la technologie de pulvérisation PVD.
Applications de DPC :
HBLED
Substrats pour cellules de concentrateur solaire
Conditionnement de semi-conducteurs de puissance, y compris le contrôle de moteur automobile
Electronique de gestion de puissance automobile hybride et électrique
Forfaits pour RF
Appareils à micro-ondes
Spécifications techniques
| La description | DPC-RTAS1215+ |
| ChambreHauteur (mm) | 1500 |
| Diamètre de la chambre (mm) | φ1200 |
| Bride de montage des cathodes de pulvérisation | 4 |
| Bride de montage de la source d'ions | 1 |
| Bride de montage des cathodes à arc | 8 |
| Satellites (mm) | 16 x Φ150 |
| Puissance de polarisation pulsée (KW) | 36 |
| Puissance de pulvérisation (KW) | DC36 + MF36 |
| Puissance d'arc (kW) | 8 x 5 |
| Puissance de la source d'ions (KW) | 5 |
| Puissance de chauffage (KW) | 36 |
| Hauteur de revêtement efficace (mm) | 1020 |
| Pompe moléculaire à suspension magnétique | 2 x 3300 L/S |
| Pompe à racines | 1 x 1000m³/h |
| Pompe à palettes rotatives | 1 x 300m³/h |
| Pompe de maintien | 1 fois60m³/h |
| Capacité | 2.2㎡ |
| Zone d'installation (L xlxh) mm | 4200*6000*3500 |
IHM + système d'exploitation à écran tactile
Veuillez nous contacter pour plus de spécifications, Royal Technology est honoré de vous fournir des solutions de revêtement complètes.
