Technologie | Pulvérisation de magnétron de fréquence médiane de MF |
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Prénettoyage | Traitement préparatoire linéaire de plasma de source d'ions d'anode |
Cathodes de pulvérisation | MF 2 paires, dc 2 Paris, |
Cibles de revêtement | Cuivre, titane, Chrome, aluminium, or d'Au, argent d'AG, acier inoxydable |
Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
Sources de dépôt | MF/DC pulvérisant + cathodes d'arc |
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Films de dépôt | Revêtements durs, DLC, revêtement optique de film, revêtements décoratifs |
Applications | PECVD traitent, le film de DLC, diamant comme le film de carbone, film optique de pulvérisation, |
Caractéristiques de film | Corrosion élevée et résistance à l'usure réfléchies et excellentes |
Couleurs de revêtement | Couleur noire et or de Rose, revêtement bleu de couleurs |
Sources de dépôt | MF/DC pulvérisant + cathodes d'arc |
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Films de dépôt | Revêtements durs, DLC, revêtement optique de film, revêtements décoratifs |
Applications | PECVD traitent, le film de DLC, diamant comme le film de carbone, film optique de pulvérisation, |
Caractéristiques de film | Corrosion élevée et résistance à l'usure réfléchies et excellentes |
Couleurs de revêtement | Couleur noire et or de Rose, revêtement bleu de couleurs |
Modèle de pulvérisation | Non équilibré/équilibré avec C.C, MF |
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Sources de pulvérisation | Planaire pulvérisez ou le cylindre pulvérisent |
Applications | Dépôt de pulvérisation de jantes de roue de voiture, de miroirs de voiture, d'argent et d'or, instru |
Représentation de revêtement | Haut réfléchi et uniformité, preuve de corrosion, résistance d'abrasion |
Caractéristiques d'équipement | Structure robuste, conception compacte d'empreinte de pas, rendement élevé et contrôle d'Oepration d |
Chambre | Orientation verticale, 2 portes, |
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Technologie de vide | Dépôt de pulvérisation de C.C |
Sources de dépôt | Cathode cylindrique planaire de pulvérisation |
Films de revêtement | Al, AG, Cr, Cu, Ti, hauts films de réflexion d'acier inoxydable |
Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
Chambre | Orientation verticale, 1 porte |
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Matériel | Acier inoxydable 304/316 |
Caractéristiques de film | Corrosion élevée et résistance à l'usure réfléchies et excellentes |
Nom | système de cuivre de pulvérisation de magnétron |
technologie | Tonnelier Deposition du flacon de vide PVD |
Chambre | Orientation verticale, 2 portes |
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Sources de dépôt | Évaporation de filament de tungstène + dépôt de pulvérisation |
Films de dépôt | Sn, dedans, évaporation thermique d'Al/Cr/Ag/Au + pulvérisation en acier de Ti/Cr/Ni/Stainless |
Applications | L'IEM et les NCVM filment le revêtement, produits électroniques, outils à distance |
Technologie | Vide de PVD metallzing, pulvérisant, évaporation thermique, nettoyage de plasma de source d'ions |
Films de dépôt | Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr etc. |
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Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
Caractéristiques de film | une meilleure conduction thermique, adhérence forte, haute densité, bas coût de production |
Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
Sources de dépôt | Arc cathodique orienté + cathode de pulvérisation de MF |
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Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
Chambre | Orientation verticale, 1 porte |
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Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
Sources de dépôt | Cathodes de pulvérisation de C.C/MF |
Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
Applications | Des véhicules à moteur, semi-conducteur, enduisant sic, dépôt de film de DLC, |